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平面(圆柱)磁控系列高真空卷绕镀膜设备
系统控制采用典型的 上下位机控制方式。
1上机位――触摸屏用来显示系统的 运行参数及状态，包括对整个卷绕系统的 故障显示，以便生产和维护使用。同时可以设置和修改镀膜的 初始参数值和起始状态值。触摸屏触摸屏主要显示的内容有速度，膜长，张力，电流等。
2下机位――采用LS.Master-k系列PLC可编程控制器，完成整个镀膜的逻辑操作，过程控制及张力系统基本参数计算，PLC与调整器之间直接通讯和交换数据，进行监视和控制。
3调速采用进口全数字直流调速装置作调速传动的主控设备，包括对收、放卷辊、主辊及张力辊的控制，PLC直接与调速装置通讯和调控。
4系统设有各种保护功能，如：检测到断膜时放卷辊紧急停车，其他辊进行软停车。
5.设备配有超低温捕集系统，最低温度可达-130℃通过捕集器的低温表面迅速凝结真空系统水蒸气和高沸点气体，大大提高抽空时间和系统极限真空，使生产效率得到。尤其是在镀纸，皮革等放气量大的材料效果犹为显著
主要技术参数:
超低温镀镆设备 磁控溅射靶
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设备配有线性霍而等离子体源，在镀膜过程同时实现在线离子清洗，有效的改善了被镀工件的浸润性、增加了薄膜的附着力，避免了镀膜工件带静电而造成易造成的崩膜，还可以有效的避免镀膜工件针孔的出现，大大提高了镀膜质量。
高真空卷绕镀膜设备
